2026年,碳化硅(SiC)产业正经历从“野蛮生长”向“精耕细作”的关键转型。行业在经历2024-2025年的价格战后,于2026年初迎来供需格局改善与价格触底反弹。AI数据中心作为继新能源汽车之后的第二增长极,正以远超预期的速度拉动高功率密度电源需求,推动行业进入“EV基本盘+AI新引擎”的双轮驱动时代。全球竞争格局重塑,中国企业凭借技术突破与成本优势实现弯道超车,其中天岳先进以27.6%的全球市占率登顶导电型衬底市场第一。8英寸衬底大规模量产元年已至,技术迭代与成本下降将开启新一轮增长周期。
一、 全球竞争格局:中国力量崛起,龙头地位确立
1.1 市场集中度与头部玩家
全球碳化硅衬底市场已形成“一超多强”的竞争格局。根据日本富士经济2026年3月发布的数据,2025年全球导电型碳化硅衬底材料市场中,天岳先进(SICC)市场份额达到27.6%,位居全球第一,超越传统巨头Wolfspeed。其中,在代表未来方向的8英寸产品细分市场,天岳先进更是以51.3%的绝对市场份额占据统治地位。
排名 | 公司 | 2025年全球导电型衬底市占率 | 核心优势 | 8英寸进展 |
|---|
1 | 天岳先进 (中国) | 27.6% | 液相法技术领先,8英寸良率高,成本优势显著 | 8英寸市占率51.3%,全球首家量产12英寸衬底 |
2 | Wolfspeed (美国) | 约20% | PVT法鼻祖,全产业链布局,AI业务增长快 | 推进8英寸量产,已制备300mm(12英寸)样品 |
3 | 意法半导体 (意法) | 约30% (器件端) | 垂直整合IDM模式,与三安光电合资扩产 | 意大利卡塔尼亚8英寸衬底工厂投产 |
4 | 英飞凌 (德国) | 约25% (器件端) | 收购Siltectra获得冷切割技术,强于器件 | 马来西亚居林8英寸产线满负荷爬坡 |
5 | 三安光电 (中国) | - | IDM模式,成本控制能力强,与意法深度绑定 | 重庆工厂8英寸衬底周产能突破500片 |
1.2 国际巨头动态:战略调整与业务聚焦
Wolfspeed:经历破产重整后,战略聚焦于8英寸平台与AI数据中心高价值市场。其2026财年第三季度财报显示,AI数据中心相关业务环比增长约30%,成为新的增长引擎。公司推出了业内首款商用10kV SiC MOSFET,并探索300mm SiC在先进封装中的应用。
意法半导体与英飞凌:凭借IDM模式与车企深度绑定,持续扩大产能。意法半导体目标在2026年底将碳化硅晶圆产能提升至50万片/年。
三星电子:已正式重启碳化硅业务,计划2028年实现8英寸SiC晶圆量产,瞄准车规与工业市场,为行业增添新变量。
1.3 国内产业梯队:从材料到设备的全面突破
中国碳化硅产业已形成从衬底、外延、器件到设备、应用的完整产业链,并在多个环节实现全球领先。
衬底环节:天岳先进(龙头)、天科合达、烁科晶体等已实现8英寸量产。同光股份、乾晶半导体等第二梯队厂商加速跟进。
设备环节:晶升股份作为核心“铲子股”,其SiC长晶炉在中国台湾地区市占率高,有望在CoWoS的SiC应用中重点受益。公司当前SiC在手订单已是去年全年营收两倍,直接受益于行业扩产潮。
器件/IDM环节:三安光电(与意法合资)、士兰微、华润微、比亚迪半导体等均已推出车规级产品并导入头部车企。
二、 技术路径与先进程度排名
2.1 三大技术路径对比
碳化硅衬底生长主要有物理气相传输法(PVT)、液相法(TSSG/LPE)和高温化学气相沉积法(HTCVD)三种技术路线。
技术路径 | 原理 | 优点 | 缺点 | 代表厂商 | 产业化成熟度 |
|---|
PVT法 | 高温下SiC粉末升华再结晶 | 技术最成熟,成本可控,市场份额超90% | 缺陷控制难,生长速度慢,扩径难度大 | Wolfspeed、天科合达、烁科晶体 | 已大规模量产(6/8英寸) |
液相法 (TSSG) | 金属熔剂中溶解再结晶 | 晶体质量极优,位错密度低,易实现P型掺杂 | 生长速度慢,设备复杂,有金属污染风险 | 天岳先进、日本住友电工 | 小批量/量产,用于高端市场 |
HTCVD法 | 气体反应沉积 | 生长速度快,纯度高,易于掺杂 | 设备极其昂贵,维护困难 | 部分研发机构 | 研发/小批量阶段 |
技术先进性排名(衬底领域):
天岳先进:凭借液相法在8英寸高质量衬底上实现量产突破,良率已达70%-80%,并全球首发12英寸全系列衬底产品,技术领先全球一代。
Wolfspeed:PVT法奠基者,在8英寸量产和12英寸研发上保持领先,但面临良率爬坡和成本压力。
日本住友电工:液相法另一领导者,但产业化规模和速度不及天岳先进。
天科合达/烁科晶体:国内PVT法领先企业,8英寸量产进程紧跟头部。
2.2 尺寸迭代:8英寸量产定胜负,12英寸已见曙光
2026年是8英寸碳化硅衬底大规模量产的“元年”。相比6英寸,8英寸晶圆单片芯片产出数量增加近90%,制造成本降低约35%,是行业降本增效、摆脱低端价格战的关键。
三、 市场需求、价格趋势与业绩弹性
3.1 需求结构:从“EV单支柱”到“EV+AI双轮驱动”
电动汽车(EV)基本盘:800V高压平台从高端车型下沉至20万元级主流市场,带动单车SiC用量提升。预计2026年全球新能源汽车SiC渗透率将突破45%。尽管EV销量增速放缓,但结构性升级支撑需求稳定。
AI数据中心第二增长极(核心新增量):这是2026年行业最大的预期差和增长引擎。AI服务器单机柜功耗从10kW飙升至100kW以上,传统硅基电源效率遭遇瓶颈。SiC器件凭借高耐压、低损耗特性,成为800V高压直流(HVDC)架构服务器电源的唯一成熟选择。
3.2 价格趋势:触底反弹,结构性分化
经历2024-2025年的惨烈价格战后,2026年初碳化硅衬底价格迎来确定性拐点。
6英寸产品:价格战彻底结束,明确触底反弹。以D级通用工业级衬底为例,价格从2025年末的2300元/片低点,反弹至2026年4月的约4900元/片,累计涨幅超110%。
8英寸产品:价格止跌企稳并进入回升通道。车规级8英寸衬底价格在5550-5780元/片区间企稳并小幅上涨。由于良率提升、成本下降,8英寸产品的盈利能力显著优于6英寸。
结构性分化:车规级产品因认证壁垒高,价格抗跌性和修复能力远强于通用散货。天岳先进车规级产品出货占比超85%,充分受益于此趋势。
3.3 业绩弹性:龙头率先回暖,设备环节弹性最大
材料龙头(天岳先进):2026年第一季度毛利率由负转正至19.12%,环比大幅提升25.01个百分点,显示其成本控制与产品结构优化成效显著。作为全球衬底龙头,将最大程度享受行业量价齐升红利。
国际龙头(Wolfspeed):尽管公司整体仍处亏损,但AI数据中心业务营收过去三个季度实现翻倍,环比增长约30%,成为黯淡财报中的唯一亮点。显示高附加值AI业务对业绩的拉动作用。
设备核心(晶升股份):作为SiC长晶炉龙头,是行业扩产的“卖水人”。公司透露当前SiC在手订单已是去年全年营收两倍,业绩弹性将在设备交付确认后集中释放。其在中国台湾地区的高市占率,使其有望深度受益于台积电CoWoS先进封装中对SiC载板的需求。
行业整体:随着价格回暖、AI需求爆发,碳化硅板块上市公司业绩有望在2026年第二季度起迎来环比持续改善。
四、 未来展望与投资逻辑
4.1 核心结论
周期反转确认:价格战结束,6英寸价格反弹、8英寸价格企稳,行业最黑暗时刻已过。
成长逻辑切换:需求驱动从“新能源汽车”单一主线,切换为“新能源汽车(稳健基本盘)+ AI数据中心(爆发新引擎)”双轮驱动,市场空间与估值体系重塑。
国产替代加速:中国企业在全球衬底市场已取得份额第一,在8英寸等先进技术节点实现领先,从“跟跑”进入“并跑”甚至“领跑”阶段。
技术迭代定格局:8英寸量产能力是当前竞争分水岭,12英寸研发是未来制高点。拥有液相法等先进技术、良率控制好的企业将建立长期护城河。
4.2 风险提示
产能扩张过快风险:若企业盲目扩产,可能再次引发供需失衡。
技术迭代风险:硅基器件(如IGBT)技术改进或新材料(如金刚石)突破,可能对SiC中长期需求构成挑战。
下游需求不及预期风险:AI数据中心建设进度、新能源汽车销量若不及预期,将影响行业景气度。
国际贸易政策风险:全球半导体产业供应链可能受到地缘政治因素干扰。
(本报告基于公开信息整理,不构成任何投资建议。)